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投資界 Tag 光刻機 第2頁

光刻機

光刻機最新資訊，投資界全方位播報光刻機相關話題,全面解讀光刻機投資、融資、并購等動態。

  • ASML高歌猛進于2017年推出了TWINSCANNXE:3400B，將光刻機的制程（即最小的電路柵格間距離）從7納米推到了5納米。而由此，ASML的光刻霸主地位也最終確定。

  • 光刻機從誕生到現在，經歷了多次迭代，發展出了多種應用技術，為了應對不斷發展的應用需求，新的技術高峰和難題也在等待業界去攀登和攻克。

  • 中國龐大的半導體市場需求擺在這里，市場需求必然會驅動技術創新去逐步攻克光刻機技術。

  • 一個更能穩定供應的電力基礎設施，也是未來半導體產業競爭背后不可或缺的力量。

  • 換個角度來看，集體腰斬的半導體公司雖然慘，但好歹是第一個活明白的。

  • 晶圓廠們都不愿擴產了，佳能為何在此時增加光刻機產能？項莊舞劍，意在沛公；佳能擴產，意在中國。

  • 盡管“摩爾定律”還沒死去，但人們已經在尋求“摩爾定律”放緩下新的技術創新了。

  • ASML一直處于高度戒備的狀態。在任何光刻轉換中，ASML 都需要依賴外部的創新。

  • “如果不將光刻機賣給中國，五年之內，他們必將掌握所有的EUV光刻技術，十五年之后，ASML公司或將失去行業話語權！”

  • 2021年，全球半導體行業總銷售額達5500億美元。其中，作為全球最大、發展最快的芯片半導體銷售市場，彭博數據顯示，過去4個季度，每個季度增長最快的20家芯片產業公司中，平均有19家來自中國大陸。

  • 沒有光刻機，就沒有現代的芯片行業。半導體行業對資金的需求本來就大，光刻機產業也不是一場可以速戰速決的戰爭。摘下光刻機這個顆“明珠”，我們勢在必行。

  • 面對越來越火熱的芯片產業，ASML在EUV道路上一路狂奔，佳能和尼康卻“獨辟蹊徑”，試圖在獨特路線上通過差異化來獲取競爭優勢。

  • 如果你仔細翻閱ASML的發展史，你會看到無數個處于絕境的時刻，以及無數個絕境逢生的時刻，是很難，但總有辦法。

  • 一臺光刻機可能有十萬多個零部件，其中的零部件也來自全球各國。材料和零部件的全球分布也讓這個產業時常面臨不確定性帶來的波動，很容易就斷了。

  • 在黃昆、謝希德、夏培肅、高鼎三、吳錫九、林蘭英、黃敞等愛國科學家的帶領下，新中國的半導體產業蓬勃發展。

  • 在光刻機的發展歷程中，有前赴后繼的各國廠商，美國發明，日本發揚，荷蘭成為最終贏家。

  • 這樣一個龐然大物，不但需要在晶圓上做一些精度極高的工作，而且還需要保持更高的產能。

  • 攻克光刻機，成為當下國內半導體產業刻不容緩的任務，大家拼了。
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