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投資界 Tag 光刻機

光刻機

光刻機最新資訊，投資界全方位播報光刻機相關話題,全面解讀光刻機投資、融資、并購等動態。

  • 我們相信，在教、研、企的緊密合作下，中國EUV光刻機突圍，或已越來越近，正如臺媒所說，萬事俱備只欠東風，我們拭目以待。

  • 能看到，雖然ASML在光刻機行業一家獨大，但圍繞該產業的競爭從未停歇。

  • 光刻機，向來被視為半導體制造的命脈。但近期多家芯片巨頭釋放的信息顯示，未來光刻技術可能不再是唯一選擇，即便是很難搶到的High-NA EUV，也多處于“閑置”狀態。

  • ASML可以在未來幾十年繼續盡可能高效地縮小尺寸。但如何實現呢？

  • Synopsys高級產品營銷經理 Travis Brist 表示：“我們目前面臨的最 大挑戰是如何最 大限度地利用光刻工具。雖然我們一直在努力做到這一點，但它正變得越來越重要。”

  • 明年AI需求的不確定性在上升。“政策波動可能會影響未來長期規劃的制定，這一點值得密切關注。”

  • 目前，全球市場上大規模使用的光罩主要來自于日本的豪雅(Hoya)和信越(Shinetsu)，AGC。

  • 全球首顆第四代半導體氧化鎵8英寸單晶，刷新了氧化鎵單晶尺寸的全球紀錄。這一成果，也標志著中國氧化鎵率先進入8英寸時代。

  • 展望 2030 年以后，我們看到，imec 預計新材料將取代硅，二維原子通道也將出現。Imec 還認為，隨著行業不可避免地轉向量子計算，基于磁性的柵極可能會成為一種替代方案。

  • 在全球范圍內，臺積電、英特爾和三星等半導體巨頭之間的競爭正在升溫，它們競相獲得2nm以下工藝的High NA EUV設備。英特爾于2023年12月率先獲得該設備，臺積電于2024年第三季度緊隨其后。盡...

  • 由于財測下調，阿斯麥美股ADR在周二遭遇暴跌，最終收跌16.26%至730.43美元，創下了1998年以來的最大單日跌幅。

  • 從ASML、NXP、ASM等老牌巨頭，到BESI、Nearfield等新興力量，荷蘭無疑是一個創新的熔爐，這個國家對尖端技術的擁抱從未止步。這一點無疑值得我們學習和借鑒。

  • 在不同的階段，每一代光刻機都遇到了前所未有的挑戰與難題，與此同時，光刻技術也在這個過程中不斷演進。

  • 存儲芯片與邏輯芯片市場的需求變化，反映了在AI浪潮之下全球HBM嚴重供不應求，主要內存制造商正持續增加資本投資，擴產HBM的火熱態勢。

  • 公司背后，是一位95后華人少年Alexandr Wang。19歲那年，他從麻省理工學院退學，和同樣從卡內基梅隆大學退學的Lucy Guo創辦了Scale AI。都說AI燒錢，但Scale AI卻成為全...

  • 4月17日，光刻機巨頭阿斯麥發布了2024年第一季度財報。財報顯示，公司一季度銷售額為52.9億歐元，同比下降22%，環比下降27%；凈利潤為12.24億歐元，環比下降40%。

  • 英特爾獲得的全球首臺High-NA EUV光刻機不僅標志著該公司在半導體制造領域的一大進步，也展示出其在推動先進光刻技術發展方面的決心和能力。

  • 瑞利判據一直是光刻機發展的根本遵循，被光刻產業界奉為“金科玉律”。當前的光刻機發展已經進入高NA(Numerical aperture，數值孔徑)的EUV光刻時代，制程可達2nm及以下，預計2025年...

  • 半導體設備大廠紛紛發布了最新財報，我們一起來看看這些行業巨頭的財報表現，以及對于行業未來走勢的預期和看法。
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